晶片規(guī)格:
2-8〞單、雙cassette
主要材料:
金屬骨架+PP/PVC/SUS304殼體,槽體材質PP/PVDF/PTFE/石英
工藝槽功能:
循環(huán)過濾+加熱
基礎工藝流程:
ACE→NMP→IPA→QDR
設備類型:
手動/半自動/全自動(定制)
Footprint : 1800 (W) x 1300 (D) x 2000(H) mm(非標)
該設備應用濕法制程有機溶劑清洗,觸控人機或PC界面搭配PLC的軟件控制,由機械手臂180度旋轉設計執(zhí)行槽位間的晶圓輸送,依制程需求或場地需求,配置多款制程槽位模塊,提高產能輸出,生產流程更有效率管控,各種安全防護標準設計,針對設備與人員的各種危險隱憂提高保護措施。