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更新時間:2021-10-12 14:03:42瀏覽次數(shù):885次
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主要用于光學(xué)玻璃、晶體、石英晶片、藍(lán)寶石玻璃、鈮酸鋰、砷化鎵、陶瓷、片鐵氧體、硅片、閥板、閥片、摩擦片、剛性密封圈、氣缸活塞環(huán)、油泵葉片等金屬及非金屬硬脆材料的雙平面研磨及拋光。
設(shè)備原理:
1.本研磨機(jī)為雙面精密研磨拋光設(shè)備,被磨、拋工件放于下研磨盤上,上下研磨盤相對或同向轉(zhuǎn)動,工件由中心齒輪轉(zhuǎn)動載體使工件自轉(zhuǎn)或公轉(zhuǎn),通過氣缸對上磨盤施壓,工件與研磨盤作相對運(yùn)動均勻磨擦,來達(dá)到對工件的研磨拋光目的。
技術(shù)參數(shù):
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