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　　在半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中，硼是一種P型雜質(zhì)。過(guò)量會(huì)使N型硅反轉(zhuǎn)，從而影響電子和空穴的濃度。因此，在超純水工業(yè)中應(yīng)充分考慮硼的去除。電子和半導(dǎo)體工業(yè)用超純水標(biāo)準(zhǔn)指南(ASTM-D5127-13)要求硼離子≤ 0.05 in e1.3μg/L。如果硼離子含量能夠達(dá)到較低的指標(biāo)，則必然會(huì)改善半導(dǎo)體的性能。

　　半導(dǎo)體超純水工藝中Huncotte系統(tǒng)選用核級(jí)樹(shù)脂，可通過(guò)靶向離子交換樹(shù)脂有效控制系統(tǒng)出水的硼離子含量。采用IPC-MS檢測(cè)硼離子含量，并對(duì)硼離子流出物進(jìn)行分析≤ 0.005μG/L遠(yuǎn)低于硼離子的要求≤ ASTM-D5127-13標(biāo)準(zhǔn)中E1.3中的0.05μg/L。我們相信更高質(zhì)量的超純水可以給半導(dǎo)體帶來(lái)更好的性能，給半導(dǎo)體企業(yè)帶來(lái)更強(qiáng)的優(yōu)勢(shì)。