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2025亞洲金屬建筑設(shè)計與產(chǎn)業(yè)博覽會
2025-02-20
展會專題
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活動專題 Intel資深首席工程師Steve Carson表示，Intel利用先進(jìn)光刻機(jī)已在一季內(nèi)生產(chǎn)3萬片晶圓，這些晶圓可以產(chǎn)出數(shù)千顆計算芯片。
這兩臺光刻機(jī)是目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)，能夠比之前的阿斯麥光刻機(jī)生產(chǎn)出更小、更快的計算芯片。
去年，Intel成為了全球首家接收這些光刻機(jī)的芯片制造商。此舉是Intel的戰(zhàn)略轉(zhuǎn)變，該公司在采用上一代極紫外 (EUV) 光刻機(jī)方面落后于競爭對手。
Intel花了七年時間才將之前的機(jī)器全面投入生產(chǎn)，導(dǎo)致其領(lǐng)先優(yōu)勢被臺積電超越。 在生產(chǎn)初期，Intel曾因先前那些EUV機(jī)型的可靠性問題而遇到挫折。
不過Carson表示，ASML的高數(shù)值孔徑（High-NA EUV）極紫光刻機(jī)在初步測試中的可靠性大約是前一代機(jī)器的兩倍，“我們能以一致速度生產(chǎn)晶圓，這對平臺是一大幫助”。
同時，新的光刻機(jī)能以更少曝光次數(shù)完成與早期設(shè)備相同的工作，從而節(jié)省時間和成本。 Carson指出，Intel工廠的早期結(jié)果顯示，高數(shù)值孔徑（High-NA EUV）極紫光刻機(jī)只需要一次曝光和個位數(shù)的處理步驟，即可完成早期機(jī)器需要三次曝光和約40個處理步驟的工作。
去年2月份，ASML首次在其荷蘭總部向媒體公開展示了最新一代的High NA EUV光刻機(jī)。
據(jù)悉，一套High NA EUV光刻機(jī)的大小等同于一臺雙層巴士，重量更高達(dá)150噸，組裝起來比卡車還大，需要被分裝在250個單獨(dú)的板條箱中進(jìn)行運(yùn)輸。
裝機(jī)時間預(yù)計需要250名工程人員、歷時6個月才能安裝完成。
根據(jù)爆料顯示，High NA EUV的售價高達(dá)3.5億歐元一臺，約合人民幣27億元，它將成為全球三大晶圓制造廠實(shí)現(xiàn)2nm以下先進(jìn)制程大規(guī)模量產(chǎn)的必備武器。
2023年12月，Intel率先拿下了全球首臺High NA EUV光刻機(jī)，臺積電和三星訂購High NA EUV預(yù)計最快2026年到貨。
公開資料顯示，NA數(shù)值孔徑是光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)的重要指標(biāo)，直接決定了光刻的實(shí)際分辨率，以及最高能達(dá)到的工藝節(jié)點(diǎn)。
一般來說，金屬間距縮小到30nm以下之后，也就是對應(yīng)的工藝節(jié)點(diǎn)超越5nm，低數(shù)值孔徑光刻機(jī)的分辨率就不夠了，只能使用EUV雙重曝光或曝光成形(pattern shaping)技術(shù)來輔助。
這樣不但會大大增加成本，還會降低良品率。因此，更高數(shù)值孔徑成為必需。
Intel表示，計劃使用High NA EUV光刻機(jī)來協(xié)助開發(fā)其18A制程，該技術(shù)預(yù)計今年稍晚時隨著新一代PC芯片進(jìn)入量產(chǎn)。
此外，Intel計劃在下一代14A制程中全面導(dǎo)入這款設(shè)備，但尚未公布該技術(shù)量產(chǎn)時間。
原標(biāo)題：世界最先進(jìn)！ASML High-NA EUV光刻機(jī)已在Intel投入生產(chǎn)：晶圓生產(chǎn)效率、可靠性翻倍
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