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納克Labspark 1000光譜儀

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更新時間:2022-10-31 15:47:44瀏覽次數(shù):482

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產(chǎn)品簡介

納克Labspark 1000光譜儀

詳細介紹

儀器名稱光電直讀光譜儀


儀器型號Labspark1000


>> 儀器介紹
廣泛應用于冶金、鑄造、機械、金屬加工等領域的生產(chǎn)工藝控制,爐前化驗,中心實驗室成品檢驗,可用于Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、Sn、Ag等多種金屬及其合金樣品分析,穩(wěn)定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、方便維護、抗力強。



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>> 儀器參數(shù)
?帕邢—龍格架法,高發(fā)光全息光柵。
?光柵焦距750mm,刻線為2400條/mm,譜線范圍:120-800nm。
?色散率:一級色散率:0.55nm/mm,二級色散率:0.275nm/mm。
?分辨率:優(yōu)于0.01nm。
?整體出射狹縫調(diào)試方便、快捷、便于用戶增加更改通道,節(jié)約成本。
?光柵、光電倍增管等核心部件全部進口。
?真空度由真空泵和真空控制設備控制。
?鑄造光室,熱膨脹系數(shù)低,保證真空度的要求。



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>> 其他參數(shù)
?采用納克公司的金屬原位分析儀的核心關鍵技術(shù)—單次放電采集解析技術(shù)(Single Discharge  Analysis,SDA)。
?世界的多通道同步描跡提高儀器穩(wěn)定性。
?延時積分技術(shù),、,不同的通道采用不同的積分起始時間。
?內(nèi)部恒溫系統(tǒng),不同的部位采用不同的恒溫條件,大大的減少了外部環(huán)境變化對儀器的影響(控制精度±0.1℃)。
?連續(xù)可調(diào)光源,對不同的材質(zhì)可以匹配不同的光源實現(xiàn)的分析結(jié)果。
?模塊化的電路設計,維修方便快捷,為遠程診斷做好了準備。
?軟件可調(diào)獨立高精度負高壓模塊,負高壓精度<0.05% 。
?負高壓可由分析程序控制,提高分析程序的分析精度,擴展元素的分析范圍。



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>> 儀器特點
?激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適應各種不同材料。
?的恒溫式火花臺設計,環(huán)狀氬氣流方式,保證連續(xù)激發(fā)狀態(tài)下儀器的穩(wěn)定性,避免使用水冷帶來的不利影響。
?安全防護設備阻止不安全激發(fā)。
?銅基座火花臺,火花臺易于拆卸,便于清潔。
?帶有特殊配件,易于檢測多種形狀的分析對象(餅狀、棒狀、線狀)。
?一體式透鏡隔離閥,可防止因日常維護導致的光室污染影響強度下降,透鏡易于更換。
?放電室設計,保證放電在條件下進行。
?激發(fā)電極為鎢電極。


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