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Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡

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  • 型號(hào) Quattro E
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 上海市

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更新時(shí)間:2023-06-05 13:42:13瀏覽次數(shù):390

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品編號(hào): 所屬品牌: 賽默飛FEI產(chǎn)品型號(hào): Quattro E 額定功率:按實(shí)際方案提供所屬類別: FEI電鏡SEM所屬用途: 尺寸測(cè)量應(yīng)用領(lǐng)域: 非金屬產(chǎn)品特性: 下載相關(guān)資料

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品參數(shù)

產(chǎn)品編號(hào): 所屬品牌: 賽默飛FEI
產(chǎn)品型號(hào): Quattro E 額定功率:按實(shí)際方案提供
所屬類別: FEI電鏡SEM所屬用途: 尺寸測(cè)量
應(yīng)用領(lǐng)域: 非金屬
產(chǎn)品特性:
下載相關(guān)資料

Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡

環(huán)境掃描電鏡(ESEM),用于研究包括含水樣品在內(nèi)的各種樣品。

Thermo Scientific Quattro ESEM將SEM成像與SEM分析的綜合性能與的環(huán)境模式 (ESEM) 相結(jié)合,可在自然狀態(tài)下研究樣品。Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡是各種學(xué)術(shù)、工業(yè)和政府實(shí)驗(yàn)室的理想選擇,這些實(shí)驗(yàn)室希望不僅能為不同經(jīng)驗(yàn)水平和學(xué)科的用戶提供具有多功能性和易用性的測(cè)試平臺(tái),而且能擴(kuò)展原位實(shí)驗(yàn)功能。Quattro ESEM 環(huán)境掃描電鏡配備場(chǎng)發(fā)射電子槍 (FEG),可實(shí)現(xiàn)高分辨觀察,同時(shí)其三種真空模式(高真空、低真空及 ESEM)可靈活適應(yīng)各種樣品,包括易放氣或在高真空環(huán)境下不穩(wěn)定的樣品。

強(qiáng)大的分析和擴(kuò)展能力

得益于樣品倉(cāng)尺寸,Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡可適配各種附件。分析能力包括可外接對(duì)稱 180 度的雙能量色散 X 射線光譜( EDS ),可與EDS幾何共面的背散射電子衍射 (EBSD) ,以及波長(zhǎng)色散 X 射線光譜 (WDS)。

Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡支持可選的環(huán)境真空加熱臺(tái)、高真空加熱臺(tái)、Thermo Scientific AutoScript 4 軟件(基于 Python 的腳本工具)以及新款 RGB 陰極發(fā)光 (CL) 檢測(cè)器。RGB CL 檢測(cè)器可生成彩色圖像,顯示傳統(tǒng)電子或 X 射線成像技術(shù)中無(wú)法看到的樣品特性。環(huán)境真空加熱臺(tái)適用于易放氣樣品或一定氣氛下的樣品加熱試驗(yàn),高真空加熱臺(tái)可以在高真空模式下對(duì)樣品進(jìn)行加熱觀察,且沒(méi)有多余氣氛的干擾。借助 AutoScript 4 軟件,用戶可對(duì)各種成像參數(shù)和載物臺(tái)移動(dòng)進(jìn)行編程,可實(shí)現(xiàn)Quattro在無(wú)人操作的情況下進(jìn)行數(shù)據(jù)采集。

Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡的應(yīng)用包括:

納米表征

  • 金屬和合金、斷裂、焊縫、拋光切片、磁性和超導(dǎo)電材料
  • 陶瓷、復(fù)合材料、塑料
  • 薄膜/涂層
  • 地質(zhì)切片、礦物
  • 軟材料:聚合物、藥品、濾片、凝膠、組織、植物材料
  • 顆粒、多孔材料、纖維

原位表征

  • 結(jié)晶/相變
  • 氧化、催化
  • 材料生長(zhǎng)
  • 水合/脫水/潤(rùn)濕/接觸角分析
  • 拉伸(帶加熱或冷卻)

動(dòng)態(tài)原位實(shí)驗(yàn)

Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡的多功能性使其非常適用于材料科學(xué)領(lǐng)域的大部分主題。它對(duì)傳統(tǒng)的高分辨率 SEM 成像/分析以及動(dòng)態(tài)原位實(shí)驗(yàn)都非常擅長(zhǎng)。它可以幫助研究人員研究自然狀態(tài)下的各種樣品,以獲得關(guān)于結(jié)構(gòu)和組分的準(zhǔn)確的信息。

的環(huán)境模式

Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡的環(huán)掃功能可使科學(xué)家在各種條件下(例如濕/潮濕、熱或活性環(huán)境)研究材料、從而可以為建筑、汽車、包裝、涂層和能源等眾多學(xué)科開(kāi)發(fā)新材料和產(chǎn)品。Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡具有研究化學(xué)反應(yīng)(如氧化、腐蝕、蝕刻、晶體生長(zhǎng)和催化)的能力,可顯著影響科學(xué)與環(huán)境。

Quattro ESEM 環(huán)境掃描電鏡的主要特點(diǎn)

動(dòng)態(tài)原位實(shí)驗(yàn)

對(duì)自然狀態(tài)下的材料進(jìn)行原位研究:具有環(huán)境模式的高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 (ESEM)。原位分析的溫度范圍為 -165°C 至 1400°C,搭配使用各種冷臺(tái)和熱臺(tái)。

樣品觀察

在各種操作模式下均可實(shí)現(xiàn) SE 和 BSE 同時(shí)成像。

靈活且準(zhǔn)確

靈活且準(zhǔn)確的優(yōu)中心樣品臺(tái),傾斜范圍達(dá) 105°,可從各個(gè)角度觀察樣品。

大限度地減少樣品制備時(shí)間

低真空和ESEM環(huán)境掃描電鏡功能可對(duì)非導(dǎo)電和/或含水樣品進(jìn)行無(wú)電荷/無(wú)脫水成像和分析。

優(yōu)異的分析能力

優(yōu)異的分析能力來(lái)自可以最多同時(shí)使用 3 個(gè) EDS 檢測(cè)器的腔室,并具有對(duì)稱180°的 EDS 接口、WDS接口以及和EDS幾何共面的EBSD接口。對(duì)非導(dǎo)電樣品的優(yōu)秀分析:在低真空條件下,Quattro ESEM高溫掃描電鏡的減小電子束散射技術(shù)可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的 EDS 和 EBSD。

易于使用的軟件及創(chuàng)新性選項(xiàng)

直觀易用且?guī)в杏脩糁改虾统废δ艿能浖J褂酶俚氖髽?biāo)點(diǎn)擊,更快速地完成工作。新的創(chuàng)新選項(xiàng),包括可伸縮 RGB 陰極發(fā)光 (CL) 檢測(cè)器、1100°C 高真空加熱載物臺(tái)和 AutoScript 4 軟件(基于 Python 的API腳本工具)。

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