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全反射X射線熒光分析儀TXRF技術可以對從氧到鈾的所有元素進行分析，一次可以對近30種元素進行同時分析，這是原子吸收譜儀中的ETAAS和FAAS方法難以做到的。
一、全反射X射線熒光分析儀介紹
全反射X熒光（TXRF）分析技術是近年來才發(fā)展起來的多元素同時分析技術。一種多功能機，TXRF利用全反射技術，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EXRF）本底降低約四個量級，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強或減弱效應；同時TXRF技術又繼承了EXRF方法的*性，成為一種不可替代的全新的元素分析方法。該技術被譽為在分析領域是有競爭力的分析手段、在原子譜儀領域內(nèi)處于地位。
在X熒光譜儀范圍內(nèi)，與波長色散譜儀（RF）方法比較，由于TXRF分析技術用樣量很少，也不需要制作樣品的煩瑣過程，又沒有本底增強或減弱效應，不需要每次對不同的基體做不同的基體校準曲線。另外由于使用內(nèi)標法，對環(huán)境溫度等要求很低。因而在簡便性、經(jīng)濟性、用樣量少等方面，都比RF方法有明顯的*性。
TXRF技術可以對從氧到鈾的所有元素進行分析，一次可以對近30種元素進行同時分析，這是原子吸收譜儀中的ETAAS和FAAS方法難以做到的。與質譜儀中的ICP-MS和GDMS以及中子活化分析（NAA）等方法相比較，TXRF分析方法在快速、簡便、經(jīng)濟、多元素同時分析、用樣量少、檢出限低、定量性好等方面有著綜合優(yōu)勢。
TXRF元素分析儀在元素分析領域內(nèi)的應用現(xiàn)狀和發(fā)展前景都是令人鼓舞的。它可以廣泛應用于地礦、冶金、化工、食品、生物、醫(yī)藥、環(huán)保、法檢、考古、高純材料等等各領域內(nèi)的常量、微量、痕量元素分析測定。特別在半導體工業(yè)中的硅片表面質量控制方面，有著不可替代的優(yōu)勢，目前已在上得到廣泛應用。單晶體高精度定向
二、全反射X射線熒光分析儀技術參數(shù)
1．地礦：金礦、銅精料和鎳精料、螢石、長石、氧化銻 ；
2．冶金：鎳電解液、銅陽極泥、高冰鎳中的貴金屬、光譜Rh、金銀首飾、鑄鐵、軸承 ；
3．化工：柴油中的硫含量，各種催化劑，陶瓷釉藥；
4. 環(huán)境保護 ：自來水、大氣飄塵、污水污泥；
5．生物：海洋動物牙齒和體液 ；
6．醫(yī)藥：頭發(fā)和指甲中的有益有害元素，丹參中有害微量元素 ；
7．食品：飲料中有益和有害元素 ；
8．刑偵法醫(yī)：撞車現(xiàn)場樣品鑒定 。
三、應用范圍
1、多元素同時分析：一次可分析近30種元素；
2、檢出限低：zui低檢出限：pg級（10-12）；zui低相對檢出限：ng/mL級（10-9）；
3、測量元素范圍廣：可以從11號元素Na到92號元素U；
樣品用量少， μL、μg級；
4、粉末樣品、懸浮液樣品、有平面的固體都可直接進行分析，zui低檢出限達到ng/g量級。
5、可以進行無損分析，也可進行無標樣分析；
6、測量時間短：一般在10秒－1000秒；
- 輸入功率：小于500W；
這些儀器,我這里都可以設計加工 ,其中部分可以用于晶體雜質檢測, 屬于成分分析
用定向儀，可測例圖
單晶硅的一個特殊方向切片 
人造晶片
硅切片衍射圖（X射線衍射儀測量，比定向儀測量范圍寬，效果好）
瑪瑙切片
水晶切片
